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金相(xiàng)磨抛機(jī)

金相(xiàng)磨抛機(jī)

磨抛機(jī)是金相(xiàng)實驗室,金相(xiàng)試樣的制備過程中,試樣的預磨、抛光(guāng)研磨是多(duō)道必不可少的程序,本機(jī)集污盤和罩采用 PPC 材料一(yī)體成形,是具有外形新穎美觀的 最新産品。本機(jī)通(tōng)過變頻器(qì)調速,可直接獲得 50-1000 /分鍾之間的轉速,從(cóng) 而使本機(jī)具更廣泛的應用性。

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磨抛機(jī)是金相(xiàng)實驗室,金相(xiàng)試樣的制備過程中,試樣的預磨、抛光(guāng)研磨是多(duō)道必不可少的程序,本機(jī)集污盤和罩采用 PPC 材料一(yī)體成形,是具有外形新穎美觀的 最新産品。本機(jī)通(tōng)過變頻器(qì)調速,可直接獲得 50-1000 /分鍾之間的轉速,從(cóng) 而使本機(jī)具更廣泛的應用性。

型号:HB-MP-2B

産品簡介:
金相(xiàng)實驗室,金相(xiàng)試樣的制備過程中,試樣的預磨、抛光(guāng)研磨是多(duō)道必不可少的程序,本機(jī)集污盤和罩采用 PPC 材料一(yī)體成形,是具有外形新穎美觀的最新産品。本機(jī)通(tōng)過變頻器(qì)調速,可直接獲得 50-1000 /分鍾之間的轉速,從(cóng)而使本機(jī)具更廣泛的應用性。本機(jī)帶有冷卻裝置,可以在預磨時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相(xiàng)組織。該機(jī)左盤為(wèi)預磨、研磨盤,右盤為(wèi)抛光(guāng)盤。該機(jī)不但可以對試樣進行輕磨、粗磨、半精磨、精磨,還(hái)可以對試樣進行精密抛光(guāng)。可以兩個(gè)人同時操作使用,是工(gōng)廠、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設備。

主要技(jì)術(shù)參數
工(gōng)作電(diàn)壓:220V 50HZ
研磨盤直徑:Ø230mm,轉速 50-1000 /
抛光(guāng)盤直徑:Ø200mm,轉速 50-1000 /
電(diàn) 動 機(jī):YC7124550W
外形尺寸:712×566×278mm
量:50kg

儀器(qì)配置:
進水(shuǐ)管 1 根,出水(shuǐ)管 1 根,研磨抛光(guāng)盤各 1個(gè)(随主機(jī)),砂紙(zhǐ) 2 片 絲絨 2 片 地腳螺絲 4 個(gè),電(diàn)源線 1 根。